Retix C Ultra Repair Nano-Mask - nanostrukturalna maska w płacie - 1 szt
- Retix C Ultra Repair Nano-Mask - profesjonalna maska przeznaczona do pielęgnacji pozabiegowej, łagodzi podrażnienia, redukuje zaczerwienienia, skutecznie nawilża i poprawia elastyczność skóry.
Nanostrukturalna maska w płacie - 1 szt.
Retix.C Ultra Repair Nano-Mask
Pojemność: 1 x 15 ml
Dzięki wykorzystaniu technologii nanowłókien tworzących trójwymiarową strukturę biocelulozy zapewnia bardzo wysoką absorbcję i aktywne uwalnianie trzech form kwasu hialuronowego oraz ektoiny – EctoHyal Complex 3.0.
Bioceluloza jako materiał wykorzystywany w kosmetologii i medycynie do regeneracji, idealnie przylega do obszaru zabiegowego tworząc efekt drugiej skóry. Składniki aktywne maski koją, redukują zaczerwienienia i nieprzyjemne uczucie ściągnięcia.
Składniki aktywne:
- ECTOHYAL COMPLEX 3.0 to połączenie unikalnych właściwości ektoiny oraz trzech form kwasu hialuronowego dla optymalnego, wielopoziomowego nawilżenia i złagodzenia podrażnień skóry. Ektoina stanowi ochronę przed fotostarzeniem się skóry, ponadto wzmacnia funkcję bariery i wspiera funkcje naprawcze, jest składnikiem o udowodnionym działaniu przeciwstarzeniowym
- BISABOLOL – składnik o bardzo silnych właściwościach przeciwzapalnych i łagodzących skórę. Przyspiesza proces gojenia, koi podrażnioną i wrażliwą skórę.
Wskazania:
- Podrażnienie i zaczerwienienie skóry
- Uczucie ściągnięcia i odwodnienia
- Utrata elastyczności i napięcia skóry
Zapytaj o produkt
Napisz swoją opinię
