Retix C Ultra Repair Nano-Mask - nanostrukturalna maska w płacie - 1 szt

Nanostrukturalna maska w płacie - 1 szt.
Retix.C Ultra Repair Nano-Mask

Pojemność: 1 x 15 ml

Dzięki wykorzystaniu technologii nanowłókien tworzących trójwymiarową strukturę biocelulozy zapewnia bardzo wysoką absorbcję i aktywne uwalnianie trzech form kwasu hialuronowego oraz ektoiny – EctoHyal Complex 3.0.
Bioceluloza jako materiał wykorzystywany w kosmetologii i medycynie do regeneracji, idealnie przylega do obszaru zabiegowego tworząc efekt drugiej skóry. Składniki aktywne maski koją, redukują zaczerwienienia i nieprzyjemne uczucie ściągnięcia.

Składniki aktywne:

• ECTOHYAL COMPLEX 3.0 to połączenie unikalnych właściwości ektoiny oraz trzech form kwasu hialuronowego dla optymalnego, wielopoziomowego nawilżenia i złagodzenia podrażnień skóry. Ektoina stanowi ochronę przed fotostarzeniem się skóry, ponadto wzmacnia funkcję bariery i wspiera funkcje naprawcze, jest składnikiem o udowodnionym działaniu przeciwstarzeniowym
• BISABOLOL – składnik o bardzo silnych właściwościach przeciwzapalnych i łagodzących skórę. Przyspiesza proces gojenia, koi podrażnioną i wrażliwą skórę.

Wskazania:

• Podrażnienie i zaczerwienienie skóry
• Uczucie ściągnięcia i odwodnienia
• Utrata elastyczności i napięcia skóry